光刻胶在光电子器件与光波导制作中的应用

光刻胶在光电子器件与光波导制作中的应用光刻胶在这里有两种定位：一是作为刻蚀掩模（最主流），只做图形转移，最后去掉；二是直接作为光学功能材料，固化后就是波导芯/包层、光学结构本身，广泛用于硅光、氮化硅、铌酸锂薄膜、聚合物光子、AR光波导、光耦合器、光电探测器、微环谐振腔等器件。一、两类核心作用1）掩模型光刻胶（图形转移层，工艺牺牲层）不参与导光，仅作为抗刻蚀保护层，把掩模/电子束图案转移到光功能薄膜（Si、SiN、LNO、III‑V、SiO₂），刻蚀完成后剥离。正胶（AZ5214、S1805、KrF化学放大胶等）：曝...